檢索結果：共9筆資料 檢索策略： "Hung-Fei Kuo".ecommittee (精準) and year="106"
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許多運作在窄頻電力線通道內含的設備，其內部具切換式功能的電子零件容易產生高能量的脈衝干擾訊號，常導致資料在傳輸過程中受到破壞，以致於資料失去完整性。而根據研究統計顯示，具循環穩態(cyclo…
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在半導體的先進製程中，對準誤差量測技術(Overlay Metrology)為關鍵的製程步驟，準確地測量出積體電路層與層之間的對準誤差(Overlay)，可以有效減少製程的重工率進而降低製程成本。D…
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本研究提出一套創新的六自由度聚焦式雷射光學尺量測技術，其系統架構簡單，架設與校正容易，可用以進行精密位移及旋轉角度量測。此套量測技術的開發主要是以「光柵干涉術」為技術核心，輔以外差調制技術及自行設計…
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本研究提出一套多自由度複合式散斑干涉儀，用以進行精密位移及旋轉角量測。此套干涉儀系統結合外差干涉術和散斑干涉術之優點，並透過分光技術建立一套可以進行精密位移及旋轉角量測的架構，同時具備高解析度、非接…
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本研究提出一套以「雙繞射」為設計概念進行系統開發的雙繞射式雷射光學尺，用以進行位移及旋轉角量測。此套雙繞射式雷射光學尺系統整合外差干涉術、光柵干涉術、雙繞射光路及分光技術等設計概念進行開發，使系統具…
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隨著現代積體電路的複雜度不斷增加與製程節點的演進，電路可製造性在現代微影(Lithography)製程中正遭遇許多困難。次級解析輔助特徵圖案(SRAF) 擺置與光學鄰近修正(OPC)等重要的解析度增…
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雷射直寫技術之於黃光微影製程的優勢是無需光罩，而以雷射光束聚焦在光阻上直接定義電路圖案，對此一個基於雙軸振鏡的雷射掃描系統，能夠將數十微米的聚焦光點快速定位在曝光面的任意處，不過掃描過程中存在像場變…
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光網路晶片已成為一個未來的趨勢，相較於傳統的晶片，在晶片上的溝通以及多核的系統中，它提供了更佳的頻寬、更有效率的功耗，和更短的延遲。 作為一個光網路晶片的重要元件，光繞線器由波導和光敏開關 (Pho…
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隨著先進製程快速發展以及半導體產業的蓬勃發展，晶片大小也越來越小，因此有更多複雜的設計規則需要被遵守，而一個晶片在被下線之前必須沒有違反任何一個設計規則，這導致一個電路的可繞度就變得相對重要許多。此…